【应用场合】

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；

LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管；

超纯材料和超纯化学试剂；

光导纤维、光盘； 汽车、家电表面电泳漆清洗用水；

其他高科技精微产品；

实验室和中试车间。

【工艺流程】

方案一

预处理→反渗透→初混→精混→终端后处理

方案二

预处理→二级反渗透→EDI（CDI）→终端后处理

方案三

膜法（UF）预处理→二级反渗透→EDI→膜脱气→抛光→终端后处理

【水质标准】

符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准

（18NO-CM，15MO-CM，2MO-CM和0.5MO-CM,四级)