溅射靶材、蒸发镀膜材料及蒸发装置 北京泰科诺科技有限公司镀膜材料部自成立以来已先后与国内众多知名院校、科研和生产单位进行过愉快的合作，也为美国、德国、加拿大、土耳其、越南、马来西亚、台湾、香港等国家和地区的企业、科研单位提供过众多产品。公司镀膜材料部可根据您的要求提供各种形状、规格的平面、锥形靶材和各种规格丝状、片状及不规则小颗粒状蒸发镀膜材料。靶材和蒸发镀膜材料包括各种不同纯度的金属及合金，各种氧化物、氮化物、碳化物及其他陶瓷材料。产品广泛应用于半导体工业、平板显示工业、记录媒体工业、光学镀膜工业和硬质镀膜及装饰镀膜工业等领域。 主要产品与服务 半导体工业用溅射靶材与蒸发镀膜材料: 高纯铝(Al)、铝硅(Al-Si)合金、铝硅铜(Al-Si-Cu)合金及其他铝合金、高纯金(Au)及金合金、高纯银(Ag)及银合金、五氧化二钽(Ta2O5)、二氧化硅(SiO2)、三氧化二铝(Al2O3)等。高纯铂(Pt)及铂合金纯钼(Mo)及钼合金、纯钨(W)、钨钛(W-Ti)合金、钨硅(W-Si)合金、高纯钽(Ta)、高纯铬(Cr)、纯钛(Ti)。 平板显示工业用溅射靶材与蒸发镀膜材料:铟锡(In-Sn)合金、氧化锌铝(ZnO:Al)、氧化锌(ZnO)、氧化镁(MgO)等。三氧化二铟(In2O3)、二氧化锡(SnO2)、氧化铟锡(In2O3- SnO2，简称ITO)。 记录媒体工业用溅射靶材与蒸发镀膜材料:高纯铝(Al)、铝钛(Al-Ti)合金、铝铬(Al-Cr)合金、硫化锌＋二氧化硅(ZnS-SiO2)、高纯银(In)、高纯金(Au)、氮化硅(Si3N4)、镍铁(Ni-Fe)合金(坡莫合金)。 光学镀膜工业用溅射靶材与蒸发镀膜材料: 三氧化二铝(Al2O3)、五氧化二钽(Ta2O5)、三氧化钨(WO3)、二氧化锆(ZrO2)、五氧化三钛(Ti3O5)、五氧化二铌(Nb2O5)、二氧化铈(CeO2)、三氧化二钇(Y2O3)、三氧化二铬(Cr2O3)、钛酸镨(PrTiO3)、二氧化硅(SiO2)、氧化镁(MgO)、氧化锌(ZnO)、二氧化铪(HfO2)、二氧化钛(TiO2)、一氧化钛(TiO)、三氧化二钛(Ti2O3)、硫化锌(ZnS)、五氧化二钒(V2O5)、氟化镁(MgF2)等。 硬质膜及装饰膜工业用溅射靶材与蒸发镀膜材料: 纯铬(Cr)、纯钛、钛铝(Ti-10, 20, 30%Al)合金等。纯锆(Zr)、纯镍(Ni)。 靶材与底托的连接服务(Bonding):为用户提供靶材(包括各种纯金属及合金靶材、高纯硅等半导体靶材和ITO等陶瓷靶材)，与底托的连接(Bonding)服务。 电阻加热装置：钨舟、钨篮、钼舟、钼篮、钽舟、钽篮等 蒸发镀膜材料：铝、镁、金、有机物等